三價⿊鉻
産品簡介:
三價⿊鉻電鍍⼯藝,所沉積的鍍層同樣是純⾦屬鉻,故仍具⾦屬鉻的特性,如硬度⾼、耐磨性及耐蝕性俱佳等,其鍍液以三價鉻化合物(wù)提供⾦屬鉻的來源,并以低⾦屬鉻含量操作,是新型環保産品,不含六價鉻,廢⽔處理簡單。電鍍時斷電不會有不良後果,沉積速度較六價鉻快。
1、鍍液組成及操作條件:
1. 操作條件 最佳值 控制範圍
2. 開(kāi)缸鹽 310克/升 300-320 克/升
3. 鉻鹽 120克/升 110-130 克/升
4. 穩定劑 120 毫升/升 100-120毫升/升
5. ⿊鉻發⻩劑 1 号 20毫升/升 10-30 毫升/升
6. 發⻩劑 2号 10 毫升/升 10-30毫升/升
7. 增⿊劑 20毫升/升 15-35 毫升/升
8. ⾛位劑 40 毫升/升 30-45 毫升/升
9. WA 濕潤劑 4毫升/升 3-5毫升/升
10. 氨 ⽔ 35毫升/升 30-40 毫升/升
11. ⾦屬鉻(分(fēn)析值) 22 克/公升 20-24 克/升
12. PH 值 2.8 2.6-3.0
溫 度 50℃ 45-55℃
⽐ 重 26 26-27
陰極電流密度 10A/dm2
5-20A/dm2
陽極材料 專⽤陽極(進⼝⽯墨碳闆)
過 濾 連續過濾
攪 拌 輕微空⽓攪拌
加 熱 钛、鐵佛⻰
陽極⾯積⽐陰極⾯積 1.5-2⽐ 1
沉積速度 0.16-0.3um/分(fēn)鍾
霍⽒槽打⽚條件: 6A、3分(fēn)鍾、40℃攪拌、⾛位與六價鉻相似。
2、設備要求:
A)鍍 槽:PVC、ABS、聚⼄烯襯槽;
B)陽 極:采⽤專⽤陽極及钛鈎;
C)溫度控制:采⽤钛加熱管及钛冷卻管裝置;
D)整流器:12-15V,提供直流電,爲使鍍液穩定建議配置安培⼩時積累計。
3、鍍液:本公司新開(kāi)好的⼯作液,将其先加熱⾄ 75-80℃,再降到 55℃
4、原料的功能及控制:
A)對鍍液的控制需要在安培⼩時内對電鍍液中(zhōng)各成份的數量、⽐重、酸堿度和溫度進⾏
調控。爲取得最佳電鍍性能,每個輪班⾄少需對⿊鉻的各種原料補充添加⼀次,如⼯作
載重⼤于 0.75安培/公升時補充次數應該更頻繁,定期分(fēn)析鍍液各成份及按照安培⼩時
消耗補充⿊鉻的各種原料,對⿊鉻⼯藝的穩定性⼗分(fēn)重要。建議使⽤⼯作⽇志(zhì)記錄⽣産
線的安培分(fēn)鍾⽤量、⽐重值、PH 值、溫度及⿊鉻的各種原料補充資(zī)料,帶⽔消耗可根
據⽐重值 26-28玻美調節;
B)CS 開(kāi)缸鹽:⽤于提⾼鍍液的⽐重及提供鉻離(lí)⼦,最佳值爲 26,每提⾼⼀個單位
需加 25-30克/升 CS 開(kāi)缸鹽,濃度過⾼會引起鍍液結晶,使陽極鈍化及打⽓管出現
堵塞,濃度太低時,會影響鍍液導電性能;
C)CM ⿊鉻鹽:補充鍍液所消耗的鉻離(lí)⼦,補充量爲 400-500 克/千安培⼩時。由于
鉻鹽的溶解度較低,加⼊時須緩慢(màn)地逐少量加⼊,加⼊ 7-8克/升的 CM 鉻鹽,可
提⾼ 1 克/升的鉻含量;
D)ST 穩定劑:含有 ST 穩定劑和 GLH ⿊鉻發⿊劑,消耗量爲 2000-2500
毫升/千安培⼩時;
E)GLH ⿊鉻添加劑:調整鍍層⾊澤均勻度。 消耗量爲 20-50毫升/千安培⼩時;
F)GLH 發⻩劑:起到 消耗量爲 300-500毫升/千安培⼩時;
G)GLH 增⿊劑:起到 消耗量爲 300-500毫升/千安培⼩時;
H)CL ⾛位劑:可增⼤電流密度範圍。消耗量爲 500-1000毫升/千安培⼩時;
I)WA 濕潤劑:能提⾼⾛位,消耗量爲 80毫升/千安培⼩時;
H)PH 值:可⽤鹽酸或濃氨⽔調整 PH 值,每加⼊ 2毫升/升濃鹽酸鍍液 PH 值降低 0.1;每
加⼊ 2 毫升/升濃氨⽔鍍液 PH 值提⾼ 0.1,加⼊鹽酸或氨⽔之後需攪拌 2-4 ⼩時才可⽤ PH
機測試鍍液的 PH 值,PH 過⾼三價鉻會沉澱;
I)溫 度:太低有沉澱析出,太⾼嚴重影響鍍層覆蓋能⼒。
① 鍍液的特殊性:平時⽣産⼯作溫度控制在 45-55℃,可以經常性⽤炭芯過濾鍍液,
不影響⽣産。加料或處理缸最好加溫⾄ 60℃以上保溫 2 ⼩時再降⾄正常溫度。⼀般連
續⽣産 2-3天需要選擇時間對鍍液進⾏加溫,使各組份絡合的更好;
② ⽣産中(zhōng)請按安培⼩時添加,并填寫記錄表。
5、⾦屬雜質控制及影響:
① 當三價⿊鉻鍍液受銅、鋅、鎳、鐵、鉛等⾦屬雜質污染時,鍍層的⾊澤及外(wài)觀會受
到某程度影響。⾦屬雜質含量較⾼時,鍍層⾊澤發灰。含量嚴重過多時,鍍層⾊澤不均,
會出現⽩條紋或⽩斑等情況。鍍液的帶⼊及⼯件從挂具上掉⼊槽中(zhōng)溶掉是⾦屬雜質的主
要來源;
② 定期清缸,清理掉進缸底的⼯件,可有效防⽌⾦屬雜質對三價⿊鉻鍍層⾊澤的影響。⼤部份⾦屬雜質如鋅、鐵及鎳,可⽤低電流電解清除,或可加除雜⽔ 1号掩蔽。銅雜質
⽐較敏感,需加⼊除雜⽔ 2号,然後加強過濾并做電解處理,即可清除;
③ 當鍍液受銅污染時,⾼、中(zhōng)電流區灰,随着銅雜質濃度的增加,鍍層發⽩;
④ 鍍液受鎳污染時,中(zhōng)電流區會出現⻩⾊鍍層,當鍍液同時含有鐵雜質時低電流密度
區會呈⾦⾊;
⑤ 鍍液受鉛離(lí)⼦污染時,低電流會出現⽩斑,鍍液的深鍍能⼒較差,含量過⾼時,⾼
電流密度區鍍層結合⼒下(xià)降。采⽤電解的⽅法可去(qù)除鉛的污染。
6、産品⽬錄:
★ ⿊鉻⼯作液 ★
1. 開(kāi)缸鹽
2. 鉻 鹽
3. 穩定劑
4. ⿊鉻添加劑
5. 發⻩劑
6. 增⿊劑
7. ⾛位劑
8. 濕潤劑
9. 除雜⽔ 1 号(鎳)
10. 除雜⽔ 2 号(銅)
11. 專⽤陽極(⽯墨碳闆)
7、三價⿊鉻電鍍與傳統六價鉻電鍍的⽐較:
A)覆蓋能⼒強,電流範圍⼴闊,⾼電位燒焦現象減少,可挂較多數量的⼯件,不需沖擊
電鍍,可像酸銅、鎳般循環電鍍;
B)分(fēn)散能⼒極佳,電鍍速度極快,厚度分(fēn)布更均勻;
C)不像六價鉻電鍍容易産⽣⽩漬;
D)此⼯藝采⽤專⽤⽯墨陽極,陽極使⽤壽命⻓,使鍍液免受鉛污染;
E)電鍍時使⽤的電流密度低,節省電⼒能源的消耗;
F)鍍層不含六價鉻痕漬,符合 ROHS 标準;
G)環保,不會對空⽓産⽣污染,⽽廢⽔處理更簡易;
H)安全操作,對從業⼈員(yuán)的健康有保障。
8、電鍍故障及處理:
故 障 | 原 因
| 處 理
|
鍍層有⽩⾊斑紋 | 1、⾦屬鉛污染 | 1、扯⽚處理及排查鉛污染來源 |
2、前處理不良 | 2、加強前處理 | |
鍍層發白(bái) | 1、PH 值⾼ | 1、⽤鹽酸調整 PH 值 |
2、⽐重低 | 2、補加 CS 開(kāi)缸鹽 | |
3、鍍鎳前鍍層清潔不⼲淨 | 3、清洗澈底 | |
4、鍍鉻前⼯件過于⼲燥 | 4、保持⼯件微濕 | |
鍍層發藍(lán)、起彩 | 1、GLH ⿊鉻發⿊劑多 | 1、減少⿊鉻添加劑⽤量 |
⾼電位燒 | 1、溫度低 | 1、提⾼鍍液溫度 |
結合⼒差 | 1、鎳層鈍化 | 1、鉻預浸時受六價鉻污染,排查 |
2、鉛雜質污染 | 2、扯⽚處理及排查鉛污染來源 | |
3、在鎳出⼝處雙極化 | 3、較正雙極化 | |
4、在鉻⼊⼝處雙極化 | 4、較正雙極化 | |
⾛位差 | 1、PH 偏低 | 1、⽤氨⽔調整 PH 值 |
2、⽐重偏低 | 2、補充 CS 開(kāi)缸鹽 | |
3、打⽓過快 | 3、減⼩打⽓ | |
4、CL ⾛位劑少 | 4、補加 CL ⾛位劑 | |
5、WA 濕潤劑少 | 5、補加 WA 濕潤劑 | |
沉積速度慢(màn) | 1、PH 偏⾼ | 1、⽤鹽酸調整 PH 值 |
2、攪拌慢(màn) | 2、提⾼攪拌速度 | |
3、⽐重低 | 3、添加 CS 開(kāi)缸鹽 | |
4、鉻離(lí)⼦偏低 | 4、補加 CM 鉻鹽 | |
缸邊有結晶 | 1、溫度過低 | 1、對鍍液加溫 |
2、⽐重太⾼ | 2、稀釋鍍液 | |
鍍層偏⻩ | 1、⿊鉻 CL ⾛位劑少 | 1、補充 CL ⾛位劑 |
2、⽐重偏低 | 2、補充 CS 開(kāi)缸鹽 | |
淺⾊鍍層 | 1、溫度過⾼ 2、PH 值過低 | 1、降低鍍液溫度 2、⽤氨⽔調整 PH 值 |
3、⽐重偏低 | 3、補充 CS 開(kāi)缸鹽 | |
4、CL ⾛位劑多 | 4、減少 CL ⾛位劑的添加 |
聲明:此說明書所有關于本公司産品的建議及參數,是以本公司信賴的實驗與資(zī)料爲标準。因業界同仁設
備及實際操作的各異性,故本公司不保證及不負責任可能相關之不良後果,此說明書内所有的資(zī)料
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